Micronが米国内投資を$250 billion（約40兆円）に大幅拡大し、2035年までにAI向けメモリチップ製造能力を高める計画を発表しました。ニューヨーク州での大規模工場建設を含め、90,000人以上の雇用創出が見込まれています。米国の半導体自給率向上と産業競争力強化の重要な施策として位置付けられています。
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Micron Technologyが米国内投資を$250 billion（約40兆円）（従来比で約$50 billion（約8兆円）増）に引き上げることを発表しました。2035年までの計画で、AI時代のメモリチップ需要に対応するためです。
なぜ重要か
DRAMの国内生産比率を40%に高める狙いで、米国内での半導体製造基盤の強化につながります。同社はこの投資が90,000人以上の雇用を生み出すと見込んでおり、米国の産業インフラ構想の中核となる可能性があります。
注目点
ニューヨーク州シラキュース近郊の新工場は米国史上最大級の半導体製造施設となる見通しで、5万人の雇用を創出予定です。同社はグローバルサプライチェーン強化に向けて$3 billion（約4800億円）の資金配分も計画しており、台湾のGlobalWafersのテキサス事業に$500 million（約800億円）を戦略的融資します。
Micronの投資拡大は、AI時代における米国の半導体製造基盤強化の一環です。同社は先ごろ会計年度第3四半期の決算で主要指標の大多数でアナリスト予想を上回り、メモリチップ不足が2027年を超えて継続すると予測していることから、この拡大投資はそうした需要環境に対応する戦略と考えられます。
ニューヨーク州での最初のコンクリート打設が当初予定より1四半期以上前倒しで達成されるなど、建設が予定を上回る進捗を見せています。加えてGlobalWafersとの提携を通じた上流サプライチェーン強化は、国外の調達リスク低減と安定供給確保の狙いを反映しています。商務長官Howard Lutnickやニューヨーク州知事Kathy Hochulが出席した発表会は、この投資が政策レベルでも重視されていることを示唆しています。
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